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Abscheidekinetik von Siliciumcarbid aus MTS-H2-CH4-HCl-Ar-Mischungen bei 800 bis 1400° C

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Abscheidekinetik von Siliciumcarbid aus MTS-H2-CH4-HCl-Ar-Mischungen bei 800 bis 1400° C, Christof Delhaes

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1995
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