Das Buch ist derzeit nicht auf Lager
Die chemische Gasphasenabscheidung von Titannitrid durch Einwirkung von thermischer Strahlung auf monokristalline Siliciumsubstrate zur Herstellung von Diffusionsbarrieren in der Mikroelektronik
Autoren
Parameter
Buchkauf
Die chemische Gasphasenabscheidung von Titannitrid durch Einwirkung von thermischer Strahlung auf monokristalline Siliciumsubstrate zur Herstellung von Diffusionsbarrieren in der Mikroelektronik, Barbara Fröschle
- Sprache
- Erscheinungsdatum
- 1997
Wir benachrichtigen dich per E-Mail.
Lieferung
Zahlungsmethoden
Deine Änderungsvorschläge
- Titel
- Die chemische Gasphasenabscheidung von Titannitrid durch Einwirkung von thermischer Strahlung auf monokristalline Siliciumsubstrate zur Herstellung von Diffusionsbarrieren in der Mikroelektronik
- Sprache
- Deutsch
- Autor*innen
- Barbara Fröschle
- Verlag
- Shaker
- Erscheinungsdatum
- 1997
- ISBN10
- 3826521870
- ISBN13
- 9783826521874
- Reihe
- Berichte aus der Chemie
- Kategorie
- Fotografie & Kameratechnik